Máy làm sạch bằng tia laser xung 200W

Máy làm sạch bằng tia laser xung 200W

Giơi thiệu sản phẩm

Với việc sử dụng ngày càng nhiều các quy trình sản xuất công nghệ cao trong nhiều ngành công nghiệp khác nhau, nhu cầu về máy làm sạch hiệu quả và hiệu suất đã tăng lên đáng kể. Máy làm sạch bằng laser xung 200W của MRJ-Laser đã trở thành lựa chọn phổ biến do khả năng làm sạch các bề mặt tinh tế và phức tạp mà không gây ra bất kỳ hư hỏng hoặc biến dạng nào.

Máy làm sạch bằng laser xung 200W sử dụng chùm tia laser cường độ cao để loại bỏ cặn, lớp phủ và tạp chất khỏi bề mặt. Với công suất đầu ra tối đa là 200W, máy có thể loại bỏ hiệu quả rỉ sét, sơn, dầu và các chất gây ô nhiễm khác khỏi nhiều bề mặt khác nhau, bao gồm kim loại, bê tông, gạch và gốm sứ. Điều này loại bỏ nhu cầu sử dụng dung môi hóa học và phương pháp làm sạch mài mòn, có thể gây hại cho cả môi trường và bề mặt được làm sạch.

Chùm tia laser có thể được điều chỉnh để nhắm vào các khu vực cụ thể mà không ảnh hưởng đến bề mặt xung quanh. Điều này có nghĩa là ngay cả các bề mặt tinh tế và phức tạp, chẳng hạn như các bề mặt trong ngành hàng không vũ trụ và y tế, cũng có thể được làm sạch mà không bị hư hỏng hoặc biến dạng. Ngoài ra, máy có thể được lập trình để hoạt động ở nhiều chế độ khác nhau, bao gồm xung và liên tục, tùy thuộc vào loại và độ dày của vật liệu được làm sạch.

Thông số sản phẩm

Máy làm sạch bằng laser trong ngành công nghiệp quang điện chủ yếu được ứng dụng trong các lĩnh vực sau:

• Vệ sinh mô-đun PV: Bề mặt của mô-đun PV có thể bị cát, bụi hoặc các mảnh vụn khác phủ kín, dẫn đến hiệu suất phát điện của cell thấp hơn. Việc sử dụng máy vệ sinh bằng laser có thể loại bỏ mọi bụi bẩn và mảnh vụn trên bề mặt mô-đun để khôi phục hiệu suất phát điện của mô-đun.
• Vệ sinh wafer silicon: Trong quá trình sản xuất wafer silicon, các oxit có thể vẫn còn trên bề mặt, chẳng hạn như oxit silicon, v.v. Các loại khí này có thể ảnh hưởng nghiêm trọng đến chất lượng và hiệu suất chuyển đổi của wafer silicon. Việc sử dụng máy vệ sinh laser có thể loại bỏ các oxit trên bề mặt wafer silicon và cải thiện chất lượng của wafer silicon.
• Vệ sinh cell: Mặt trước của cell được phủ một lớp phản quang và một số chất kết dính vẫn còn trên bề mặt, điều này sẽ ảnh hưởng đến hiệu suất phát điện của cell. Việc sử dụng máy vệ sinh laser có thể loại bỏ lớp phủ phản quang và chất kết dính trên bề mặt cell, và cải thiện hiệu suất phát điện của cell.

Chú phổ biến: Máy làm sạch laser xung 200w, Trung Quốc, nhà sản xuất, nhà cung cấp, giá thấp